低压化学气相沉积（LPCVD-TEOS）
型号规格：c.HORICOO200
购买日期：2019-10-31
设备分类：工艺实验设备
设备小类：加工工艺实验设备
制造厂商：Centrotherm international AG
设备产地：德国
仪器状态：内外部共享
设备原值：1020万
实验地址：东莞市松山湖国际创新创业社区C1栋
服务价格(元/每小时)：1000
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检测技术服务
无-无,无-无,无-无
仪器可预约以下服务
样品加工
功能描述
1）样品尺寸：8“、6“、4“
2）温度：630℃-750℃
3）工艺压力：~200mtorr
4）气体种类：TEOS
5）折射率：1.44±0.04
6）WIW：≤±5%(150nm)
7）WTW：≤±5%(150nm)
8）加工能力：4inch&6inch：25pcs/炉、
8inch：20pcs/炉
技术指标
低压化学气相沉积（LPCVD）共4个炉管，其中St2主要用于液态硅源正硅酸乙酯（TEOS）分解的LPCVD工艺，沉积生长SiO2绝缘介质薄膜。
注：（1）设备常规工艺温度为710℃，需要其他温度工艺需额外说明。
上机要求
无
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