低压化学气相沉积（LPCVD-Poly Si）
型号规格：c.HORICOO200
购买日期：2019-10-31
设备分类：工艺实验设备
设备小类：加工工艺实验设备
制造厂商：Centrotherm international AG
设备产地：德国
仪器状态：内外部共享
设备原值：1020万
实验地址：东莞市松山湖国际创新创业社区C1栋
服务价格(元/每小时)：1000
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检测技术服务
无-无,无-无,无-无
仪器可预约以下服务
样品加工
功能描述
1）样品尺寸：6“、8“
2）温度：≤750℃
3）均匀性：≤±5%
4）加工能力：6inch 25pcs/炉；8inch 20pcs/炉；
技术指标
1.主要用于硅烷热分解，沉积生长Poly-Si薄膜；
2.可用于表面牺牲层工艺，在半导体器件制造,薄膜加工,MEMS中有着广泛的应用。
上机要求
无
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