电子束曝光机
型号规格：Raith EBPG5200
购买日期：2020-11-09
设备分类：工艺实验设备
设备小类：加工工艺实验设备
制造厂商：Raith.B.V
设备产地：荷兰
仪器状态：内外部共享
设备原值：1379万
实验地址：东莞市松山湖国际创新创业社区C1栋
服务价格(元/每小时)：3000
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检测技术服务
无-无,无-无,无-无
仪器可预约以下服务
样品加工
功能描述
1、适用样品尺寸：最小15mm*15mm；最大8寸晶圆，7寸光刻版；
2、加速电压：100kV；
3、最大写场：1mm*1mm；
4、场畸变：≤±15nm (1mm写场);
5、束流稳定性：≤±0.5%/h;
6、最高分辨率：10nm (100μm写场); 15nm(1mm写场);
7、场拼接精度：≤±15nm (250μm写场); ≤±30nm (1mm写场)
技术指标
设备利用聚焦电子束按照设定的图形对电子束光刻胶进行扫描曝光，并通过显影实现基底的图形化。电子束曝光系统可获得纳米级图形，被广泛应用于新材料、前沿物理研究、微电子、3D结构器件加工、高功率芯片加工等领域。
上机要求
无
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